近日，拓荆科技发布2022年度业绩快报，2022年度实现营业收入17.06亿元，较上年同期增加约9.48亿元，同比增长幅度为125.02％。
实现净利为3.69亿元，较上年同期增加约3亿元，同比增长438.09％。扣除非经常性损益的净利润为1.78亿元，上年同期为亏损，成功实现扭亏为盈。
从业绩驱动来看，拓荆科技之所以一举斩获史上最好的经营成绩单，主要受益于国内主要晶圆厂半导体设备需求增加，公司继续加大产品研发投入，产品结构不断优化，产品竞争力持续增强，并进一步拓展客户群体，销售订单大幅增加，营业收入维持高增长趋势。与此同时，公司期间费用率相对有所下降，规模效应驱动公司盈利水平提高。
综合毛利率方面也持续上扬，2021年之前，徘徊在31％至34％之间，2021年上升至44.01％，随后一路上行，2022年前三季度为48.32％，同比上升2.54个百分点。由此也表明了拓荆科技产品结构的优化，以及竞争力持续增强。
从产品结构来看，拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程集成电路制造产线，打破国际厂商在高端半导体薄膜沉积设备领域对国内市场的垄断。
从行业地位来看，目前，全球半导体设备市场主要由国外厂商主导。近年来，国产半导体设备实现了从无到有、从弱到强的质的飞跃，当前拓荆科技拥有中芯国际、长江存储等知名企业客户，并且自称，目前是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备和 SACVD 设备厂商，也是国内领先的集成电路 ALD 设备厂商，具备与行业国际寡头直接竞争能力。
如果拓荆科技所言不虚，那么近年来疲弱的财务表现和技术实力的背离显得令人难解，回顾拓荆科技成长历程，从连续多年亏损到一举盈利，期间荆棘遍布。2018年公司营业收入仅为0.71亿元，随后2018年至2020年，连续三年亏损。直到2022年，也就是上市第一年，公司净利大幅增长、扣非净利正式扭亏为盈，营业收入较2020年增长了约3倍。
凭此一点，足以为不少上市前“鲜花簇拥”，上市后业绩突发“变脸”、醉心于圈钱套利的企业树立标杆形象，但是考虑到当前半导体周期下行，产业抑制因素逐渐增强，拓荆后续经营发展能否持续盈利还需跟进观察。
从二级市场来看，上市以来，截至2月28日收盘，拓荆科技的股价累计上涨了约260.00％。此外，2022年拓荆科技实施了股权激励计划，普惠性较强，覆盖了超过公司76％员工，520名员工参与，同时价格吸引力不小，相当于3.5折购买股票。
根据考核要求，2022—2025 四个会计年度，以公司 2021 年营业收入值及 2021 年净利润值为业绩基数，2022年至2025年，营业收入增长率为200％、300％、400％、500％。净利润增长率为270％、490％、700％、900％。
但是这份大礼包并不容易解锁，对应业绩考核要求不低，未来3年净利润需要维持翻倍增长的强劲动力，在增长态势延续区间，股价可能也会长期处于亢奋状态，出现业绩和股价的戴维斯双击。
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